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NEXTorr

NEXTorr

NEXTorrポンプは、NEGとイオンポンプの技術を相補的に組み合わせた設計となっています。

小さなスパッタイオンポンプ(SIP)がNEGによって排気されなかった不活性ガスを取り除いている間、ゲッターカートリッジが主なUHVポンプとして働きます。

活性化ガス(水、炭化水素、窒素等) 向けのNEGポンプの大きな排気許容量と一体化されたデザインのために、NexTorrポンプは同様の排気速度の特徴を持つSIPに比べ、10倍から50倍、小さく軽量になっています。

NEXTorrシリーズは、以下の2つのカテゴリーに分けられます。高真空の圧力範囲向け(例;1e-7トールまたはそれ以下)超高真空の圧力範囲向け(例: 1e-9トールまたはそれ以下。

 

超高真空(UHV/XHV)向けのNEXTorr

UHV/XHVの圧力レベル用途向けには、NEXTorr 製品の中で以下の2つの製品群をお勧めしています。
NEXTorr “D” シリーズ
NEXTorr “Z” シリーズ

"D"シリーズはSt172焼結型ゲッターディスクの最初の世代のものをベースとしており、
St172焼結型ゲッターディスクは、90年代初頭からUHV/XHVの真空用途の分野で使われています。"

"Z"シリーズは新しいZAO焼結テクノロジーを組み入れており、St172と比較すると幾つかの特性が改善されています。例えば、H2に対する吸着速度、H2と全ての活性ガスに対する吸着力が改善されており、更に熱活性化中の粒子発生や低いアウトガスにおいて、更に安定性が増しています。

 

高真空(High Vacuum)向けのNEXTorr

高真空の圧力レベル向けには、新しいNEXTorr HVポンプシリーズを提供しています。
"NEXTorr HVは、新型のZAO焼結NEGディスクを組み入れており、特に大量のガス・スループットを吸着できるように設計されています。NEXTorr ""Z"" シリーズに組み入れられている ZAO 焼結型ディスクに比べると、CapaciTorr HV はH2, 水、CO, N2, O2, CO2, 炭化水素等のガスを大量に吸着するためのより高い吸着力と能力を持つZAO焼結ディスクを使っています。

NEXTorr HVのイオン要素は、ノーブル・ダイオード(希ガス対応)を使っていて、希ガスが大量に存在する高真空環境での使用を確実にさせることができます。

 

特徴

  • 全ての活性ガス向けに高い排気速度と許容量を発揮
  • 不活性ガスとメタンに対しての排気速度
  • UHV-XHVでコンスタントな排気速度
  • オペレーションの際、最低限の電力しか必要としない。
  • 非常に小型で軽量なポンプ
  • 磁場との干渉を削減
  • オイルフリーおよび振動フリー
  • 10-9 mbar以下の圧力を測定可能

用途

  • 粒子加速器
  • UHV-XHV実験装置
  • ポータブル装置
  • SEM, TEM, FIB分析装置

 

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