真空システム

様々なラボでの研究や産業システムでは、的確な操作を行うのにUHVやXHV条件が必要となります。

例えば以下のような機器においてです。

•  表面分析およびフォトエミッション技術 (AES (オージェ電子分光法)、XPS(X線光電子分光)またはPEEM/LEEM (光電子放出顕微鏡/低エネルギー電子顕微鏡)、等)

•  原子トラッピングシステム
•  MBE装置
•  アルゴンとヘリウムによる年代計測装置
•  質量分析計
•  原子時計
•  粒子加速器と大型の真空研究施設

NEG（非蒸発型ゲッター）技術は、サエス・グループによって70年代に開発されました。

それ以降、NEGポンプとNEGによる解決策は、産業界で広く採用され、前述の全てのアプリケーション向けの研 究センターや大型の物理プロジェクトで利用されています。

NEGによるソリューションは、一般的には他のポンプ（スッパタ・イオンポンプ、ターボ分子やクライオポンプ）と組み合わせることで利用され、達成可能な最高の真空レベルを改善したり、真空システムの排気時間減少に貢献 しています。

NEG技術はベーキング条件の緩和にも大きな貢献をしています。例えば、ベーク・アウトのサイクルを短くしたり、ベーキング温度を下げることによって、特定の真空レベルを可能にさせることができます。

つまり、生産性を向上させ、エネルギー・コストを減らしているのです。