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特定の真空レベルや、広い範囲の分析や実験を行う必要があるチャンバー、あるいは固体装置や電子機器を製造するために、高真空や超高真空の真空状態を取得し、その状態を保持します。

最も効率的な方法でガスと不純物を排出し、その一方で最小のスペースを使うことで、単純な機械装置に比べ、必要とするエネルギーが少なくて済みます。

 

新しい技術において真空環境(ガス分子が捉えられている状態)への依存が益々高まっています。

サエス・グループは、ゲッター材料を基にした多様な製品  を提供することにより、装置や機器、生産ツールの安定した真空状態を作りだすために、 世界的な技術的リーダーと連携を取っています。

ゲッターの真空ポンプと従来のゲッター材料により、粒子加速器と先端分析機器で超高真空レベルの達成が可能になります。

これらの機器ではスペースの制約により、他のゲッター技術とは違い、真空技術の導入に制限があります。

サエス・グループはまた、そういったSi技術をベースにしたマイクロ機器内の非常に小さなスペースの中においても、真空状態を作り出すことを可能としています。 (ジャイロスコープや赤外線センサー等)