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用于真空管的薄膜吸气剂

用于真空管的薄膜吸气剂是在50微米厚的Nicrofer 基底上单面或双面沉积100-200微米厚的钛基烧结型吸气材料,可满足许多真空管严格的真空要求,已长期且成功地用于各种应用当中。可提供许多不同形状和尺寸的型号。并可能根据需求提供定制方案。

亮点

  • 单位面积上的高吸气性能

  • 适用于任何受限空间

  • 优良的机械粘合性能

  • 可能的低激活温度

  • 单面或双面涂覆

 

终端应用

  • 光电倍增管

  • X射线图像增强器

  • X射线管

  • 真空管

 

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