
用于真空管的薄膜吸气剂
用于真空管的薄膜吸气剂是在50微米厚的Nicrofer 基底上单面或双面沉积100-200微米厚的钛基烧结型吸气材料,可满足许多真空管严格的真空要求,已长期且成功地用于各种应用当中。可提供许多不同形状和尺寸的型号。并可能根据需求提供定制方案。
亮点
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单位面积上的高吸气性能
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适用于任何受限空间
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优良的机械粘合性能
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可能的低激活温度
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单面或双面涂覆
终端应用
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光电倍增管
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X射线图像增强器
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X射线管
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真空管
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