用于真空管的薄膜吸气剂

用于真空管的薄膜吸气剂是在50微米厚的Nicrofer 基底上单面或双面沉积100-200微米厚的钛基烧结型吸气材料，可满足许多真空管严格的真空要求，已长期且成功地用于各种应用当中。可提供许多不同形状和尺寸的型号。并可能根据需求提供定制方案。

亮点

• 单位面积上的高吸气性能

• 适用于任何受限空间

• 优良的机械粘合性能

• 可能的低激活温度

• 单面或双面涂覆

终端应用

• 光电倍增管

• X射线图像增强器

• X射线管

• 真空管

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