Modules HV

HVウェハーモジュールは、高真空システムでの使用に最適な設計がされた、コンパクトなフランジレスのNEGポンプソリューションです。水素（H₂）、水蒸気（H₂O）、酸素（O₂）、窒素（N₂）、一酸化炭素（CO）、二酸化炭素（CO₂）などの活性ガスをチャンバ内の任意の場所に配置した高容量のモジュールで効率的に排気できます。10⁻⁹～10⁻⁷ Torrの圧力下でクリーンかつオイルフリーの真空性能が求められる環境に最適です。

それぞれのモジュールには、高真空領域向けに特別に最適化された最新のZAO®合金（Zr-V-Ti-Al）を使用したNEG ディスクが組み込まれています。ZAO NEG技術の柔軟性と効率性により、HVウェハーモジュールは真空チャンバー内の分散排気を可能とし、チャンバ内スペースの有効利用を実現することでガス放出を低減し、設置面積を最小限に抑えます。

複数台のHVウェハーモジュールは、直列または並立の電気接続を行うことで同時に作動させることが可能で、モジュール性と拡張性を兼ね備えています。SAESチームは、研究室、粒子加速器、真空コーティングシステムなどにおいて、相互接続されたモジュールの最適な設置や電源供給を確実にするための技術サポートとガイダンスを提供しています。

• H₂、H₂O、O₂、N₂、CO、CO₂を含むすべての活性ガスを高速排気
• 長期間の運転を実現する大容量
• 高真空（HV）、超高真空（UHV）、極高真空（XHV）の条件下で安定したNEG排気性能
• 可逆的な水素排気能力（水素同位体を含む）
• 強磁場環境内でも安定した動作が可能。加速器や顕微鏡への組み込みに最適
• スーパークリーン真空システム向けのオイルフリー・振動フリーソリューション
• 軽量なモジュール式ポンプ。小型真空チャンバー内の設置が容易
• 大気解放後もすばやい排気が可能で、べークアウトは不要
• リーク耐性に優れたNEG設計。ある程度の大気侵入があるシステムでも使用可能です。
• 樹脂製O-リングシールを使用した真空システムでも使用可能。

• イオンポンプ、クライオポンプ、拡散ポンプ、ターボ分子ポンプと組み合わせることで超高真空性能を改善
• XPS、AES、SIMSなどの表面分析システム
• シンクロトロン放射光施設、粒子加速器、ビームライン
• 半導体およびコーティング装置の成膜チャンバにおいてプロセスポンプとして使用
• 研究および産業用途の薄膜成膜装置
• ポータブル真空計測装置およびモバイル分析ツール
• 水素同位体管理；排気、貯蔵、コントロールされた放出
• 希ガス充填真空装置内の残留不純物を除去

当社のNEGポンプの製品ラインアップについては、ソリューションページをご覧ください。