NEXTorr HV

NEXTorr® HVポンプは、スパッタイオンポンプ（SIP）と非蒸発型ゲッター（NEG）ポンプを一体化した高効率・コンパクトな高真空排気ソリューションです。このハイブリット構成により、非常に優れた排気速度、高い吸着容量、さらに軽量化を実現することができました。スペースの制約がある一方で高い排気性能が求められる用途に最適です。

NEXTorr® HVポンプには、高真空環境向けに特別に設計されたZAO®（Zr-V-Ti-Al）NEG合金が使われており、H₂、O₂、CO、CO₂、N₂を含むあらゆる活性ガスに対して優れたガス吸着能力を発揮します。

注意事項:

排気速度の値は、NEGエレメントが真空チャンバー内に完全に露出した状態（ヌード構成）での初期測定値で、最大のガス吸着性能を確保した状態で測定されています。

• H₂Oの値は、推定値です。（すべての環境条件での正確なキャリブレーションが複雑なため。）
• 吸着容量の値（H₂を除く）は、約200℃で使用した場合の性能をベースとしており、標準的な高真空下の動作で２０回以上の再活性化が可能です（約１年に１回程度の再活性化を想定＝２０年以上の寿命を確保可能）。ガス負荷が低い条件下や室温（ＲＴ）での使用の場合、ポンプは１００回以上再活性することができます。
• COの排気容量は、ゲッター材との相互作用が類似していることから、CO₂と同等と考えられます。

• 超小型・軽量設計で、高真空システムに簡単に組み入れることができます。
• すべての活性ガス（水素、酸素、窒素）に対して、安定した高い排気速度を保ちます。
• 希ガスとメタンを効率的に排気し、過酷な環境下の混合ガスにも対応します。
• ベーキングがされていない、あるいは樹脂シールを使用したシステムでも高い吸着能力を発揮します。
• エアーベント後の迅速な排気性能-ベーキングは不要です。
• 樹脂製O-リングを使用した真空チャンバやアウトガス量が多いシステム向けに最適です。
• 200℃付近の連続運転でも低い電力消費
• 磁場干渉を最小限に抑えた設計で、磁場の影響を受けやすい機器の近くでも使用可能です。

• 圧力表示機能を搭載しシステム診断を容易に実施可能です。

• 高真空（HV）および超高真空（UHV）環境で到達真空度を向上させます。

• 粒子加速器、シンクロトロン放射源、ビームラインに不可欠

• SEMおよびTEM電子顕微鏡で採用されており、残留ガスを低減することで画像品質を向上させます。

• ポータブル真空システムおよび現地持込型装置で導入されています。

• 安定した高真空/超高真空条件が必要となる表面科学や材料特性評価システムで使われています。

• 半導体や成膜装置の真空チャンバー向けプロセスポンプとして信頼性が評価されています。

• 核融合およびエネルギー研究において水素同位体の排気、貯蔵、放出のコントロールに最適です。