CapaciTorr D/Z (UHV)
CapaciTorr®は、スーパークリーン真空システムにおいて、高効率の排気を実現する多孔質非蒸発型ゲッター(NEG)ディスクを使ったフランジ付きのNEGポンプ製品群を指しています。
超高真空(UHV)と極高真空(XHV)の圧力領域(10⁻⁹ Torr以下)向けに設計されたCapaciTorr®シリーズは、2つの製品シリーズがあります。
- CapaciTorr® Dシリーズは、St172NEG合金をベースとしたNEGポンプで、1990年代初頭から粒子加速器や科学機器などのUHV/XHV用途で使用されており、高い信頼性を得ています。
- CapaciTorr® Zシリーズは、革新的なZAO® NEG合金を採用しています。ZAO®合金は、水素に対する高い排気速度、より強固な機械的強度、そして熱活性化(通常は1時間以内)中のガス放出の低減を実現するために特別に開発されました。この最先端の合金は、低温で活性化しても St 172 よりも大幅に優れた性能を発揮するため、高温での活性化が困難なシステムにも最適です。
主なガス種に対する排気速度と吸着容量
| Product Description | Pumping Speed (l/s) | Sorption Capacity (Torr l) | ||||||
| H2 | H2O | N2 | CO | H2 | H2O | N2 | CO | |
| CapaciTorr D 50 | 55 | 45 | 22 | 30 | 78 | 3.4 | 0.04 | 0.15 |
| CapaciTorr D 100 | 100 | 85 | 40 | 60 | 135 | 5 | 0.1 | 0.25 |
| CapaciTorr D 200 | 200 | 180 | 60 | 125 | 280 | 10 | 0.25 | 0.6 |
| CapaciTorr D 400 | 400 | 290 | 95 | 180 | 450 | 16 | 0.5 | 1 |
| CapaciTorr D 1000 | 1000 | 900 | 330 | 600 | 1360 | 60 | 1.5 | 4 |
| CapaciTorr D 2000 | 2000 | 1600 | 420 | 1000 | 2250 | 84 | 2 | 5 |
| CapaciTorr D 3500 | 3500 | 2600 | 900 | 1600 | 3950 | >200 | 4.1 | 12 |
| CapaciTorr Z 100 | 150 | 100 | 40 | 65 | 600 | 5 | 0.15 | 0.35 |
| CapaciTorr Z 200 | 290 | 195 | 75 | 130 | 1160 | 10 | 0.3 | 0.65 |
| CapaciTorr Z 400 | 500 | 320 | 125 | 210 | 1920 | 16 | 0.6 | 1.2 |
| CapaciTorr Z 1000 | 1250 | 900 | 360 | 550 | 5600 | 70 | 1.7 | 3.5 |
| CapaciTorr Z 2000 | 2600 | 1750 | 700 | 1050 | 9600 | 150 | 2.4 | 4.8 |
| CapaciTorr Z 3500 | 3900 | 2100 | 900 | 1400 | 14100 | >200 | 5.1 | 10 |
注意事項:
- 水蒸気(H₂O)の排気速度値は、超高真空(UHV)における標準試験条件に基づいた推定値です。
- 初期排気速度は排気速度が最大化される構成で測定されています。(NEGポンプは外部のハウジングやシールド無しで直接真空状態にさらされるヌード構成となっています。)
- 吸着容量は、ヌード構成で排気速度が初期値の5%に低下した時点をベースに計算されています。
- 100回以上のNEG再活性化(吸着サイクル)が可能で、要求の厳しいUHV/XHVシステムで長寿命とコストパフォーマンスの高い運用が可能となります。
特徴
- 非常にコンパクトかつ軽量なNEGポンプデザイン
- H₂、O₂、CO、CO₂、N₂を含むあらゆる活性ガスに対して、安定して高い排気速度を実現
- 超高真空(UHV)および極高真空(XHV)環境で、十分な吸着容量と長寿命を実現
- UHV/XHVレベルでも減衰しない安定した排気性能
- 起動後は常温で動作し、電源供給も不要なため、消費電力の削減が可能
- オイルフリー、振動フリーの真空排気。精密機器向けに最適
- 加速器や核融合研究施設などの強磁場環境下で安定した動作
- 水素および同位体の排気は可逆的なため、効率的に再利用可能
主な用途例
- イオンポンプ、拡散ポンプ、クライオポンプ、ターボ分子ポンプと組み合わせることで到達真空レベルを改善
- 粒子加速器およびシンクロトロン放射光施設
- 走査型電子顕微鏡(SEM)および透過型電子顕微鏡(TEM)
- コンパクトで持ち運び可能な真空機器
- 表面科学および材料分析
- 薄膜成膜装置およびデバイス製造用の真空プロセスチャンバー
- 排気、貯蔵、およびコントロールされた放出を含む水素同位体管理
Documents
Manuals & Documents
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