高精度測定のための信頼性の高いUHVソリューション
表面科学装置は、固体-液体、固体-気体、固体-真空といった異なるフェーズの表面で生じる物理的・化学的な現象を研究するための基盤です。ARPES、SPM、XPS、LEEM/PEEM、分子線エピタキシー（MBE）といった高度な表面分析技術では、高品質で再現性の高い結果を得るために、安定したクリーンな超高真空（UHV）環境が不可欠です。
技術によって基本的にベース圧力は通常 1E-9 ～ 1E-11 Torr の範囲ですが、基礎研究、半導体材料分析、特殊材料、燃料電池の研究開発などの非常にデリケートな用途ではさらに低い圧力が必要となります。
表面科学真空システムでは、最適な測定精度を確保するために、UHV環境の主な残留ガスである水素 (H₂) を高速で排気するポンプを搭載する必要があります。さらに、オイルフリー、振動フリー、精密実験を妨げる可能性のある磁場の影響を最小限もしくはゼロにする必要があります。
SAES CapaciTorr® Z NEGポンプは、ターボ分子ポンプ（TMP）、スパッタイオンポンプ（SIP）、またはクライオポンプと組み合わせることで、電力負荷やシステムの複雑さを増やすことなく水素排気効率を効率させ、真空性能を大幅に向上させます。小型で磁場の影響が無いソリューションをお探しの場合、NEXTorr® Zシリーズ（NEXTorr Z500、Z1000、Z2000を含む）が大型のイオンポンプ等に代わる最新のオプションとなります。NEXTorr Zシリーズは、次世代の表面科学研究のためのスーパークリーンで安定した真空環境を実現します。
SAES非蒸発ゲッター（NEG）ポンプのユニークな特徴
高い排気速度
H2に対する高い排気速度は、クリーンなUHV環境の実現には不可欠であり、測定を妨げる可能性のあるコンタミネーションや不純物をシステムから排除します。
振動フリー
表面科学装置では、物理的な妨害が測定の精度と正確さに影響を及ぼす可能性があるため、振動がないことが重要です。
最小磁場
測定に対する有害な干渉を最小限に抑え、正確で信頼性の高いデータを収集するには、磁場（静磁場または 傾斜磁場）を低減または除去することも必要です。
クリーンな環境
クリーンポンプ（焼結タイプＮＥＧ使用）は、測定に干渉する可能性のあるオイルやその他の物質によるコンタミネーションを防ぐことができます。そのため、特に表面科学装置のUHVシステムにとって大きな利点となります。
